靶材的主要性能要求纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，北京包银导电辊，随着微电子行业的迅速发展，包银导电辊价格，硅片尺寸由6”，8“发展到12”，而布线宽度由0.5um减小到0.25um，0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求，而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。杂质含量：靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，对碱金属含量和性元素含量都有特殊要求。铜阳极泥是铜电解精炼的副产品，产率一般为电铜产量的0.2%~1.0%，富含大量的稀有金属和，包银导电辊加工，因而成为提取稀的重要原料[1~4]。铜阳极泥处理工艺主要有三大类：一类是占据统治地位传统火法工艺流程，包银导电辊回收，主要包括：硫酸化焙烧蒸硒后酸浸脱铜-还原熔炼贵铅-氧化精炼分银-金银电解精炼-硒、碲提取几个步骤。第二类是选冶联合处理工艺流程，主要包括：湿法分离铜、硒-浮选分离-精矿分银炉熔炼-金银电解精炼-尾矿提取锡铅等有价金属；第三类是湿法工艺流程。磁控溅射原理：在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场，溅射靶材在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气)，磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电子，靶上加有一定的负高压，从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率增大，在阴极附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。包银导电辊回收-东创贵金属(在线咨询)-北京包银导电辊由沈阳东创贵金属材料有限公司提供。沈阳东创贵金属材料有限公司拥有很好的服务与产品，不断地受到新老用户及业内人士的肯定和信任。我们公司是商盟认证会员，点击页面的商盟客服图标，可以直接与我们客服人员对话，愿我们今后的合作愉快！)