钨-钛（W-Ti）膜以及以钨-钛（W-Ti）为基的合金膜是高温合金膜，纯金靶材加工，具有一系列的优良性能。钨具有高熔点、高强度和低的热膨胀系数等性能，W/Ti合金具有低的电阻系数、良好的热稳定性能。如各种器件都需要起到导电作用的金属布线，例如Al、Cu和Ag等已经被广泛的应用和研究。但是布线金属本身易氧化、易与周围的环境发生反应，与介质层的粘结性差，易扩散进入Si与SiO2等器件的衬底材料中，并且在较低的温度下会形成金属与Si的化合物，纯金靶材回收，充当了杂质的角色，使器件的性能大幅度下降。溅射靶材ITO靶材的生产工艺ITO靶材的生产工艺可以分为3种：热等静压法(HIP)、溅射靶材热压法(HP)和气氛烧结法。各种生产工艺及其特点简介如下：热等静压法：ITO靶材的热等静压制作过程是将粉末或预先成形的胚体，在800℃～1400℃及1000kgf/cm2～2000kgf/cm2的压力下等方加压烧结。热等静压工艺制造产品密度高、物理机械性能好，但设备投入高，生产成本高，产品的缺氧率高。平面显示器（FPD)这些年来大幅冲击以阴极射线管(CRT)为主的电脑显示器及电视机市场，亦将带动ITO靶材的技术与市场需求。如今的iTO靶材有两种．一种是采用纳米状态的氧化铟混合后烧结，一种是采用铟锡合金靶材。铟锡台金靶材可以采用直流反应溅射制造ITO薄膜，但是靶表面会氧化而影响溅射率，纯金靶材报价，并且不易得到大尺寸的台金靶材。如今一般采取方法生产ITO靶材，利用L}IRF反应溅射镀膜．它具有沉积速度快．且能控制膜厚，上海纯金靶材，电导率高，薄膜的一致性好，与基板的附着力强等优点。上海纯金靶材-纯金靶材报价-东创贵金属(推荐商家)由沈阳东创贵金属材料有限公司提供。沈阳东创贵金属材料有限公司是辽宁沈阳,冶炼加工的见证者，多年来，公司贯彻执行科学管理、创新发展、诚实守信的方针，满足客户需求。在东创贵金属领导携全体员工热情欢迎各界人士垂询洽谈，共创东创贵金属更加美好的未来。)