高纯四氟化碳是纯度在99.999%以上的四氟化碳产品，是一种无色无味气体。高纯四氟化碳不可燃烧，在常温常压条件下化学性质稳定，高纯四氟化碳，在密闭容器中遇高热有危险，不溶于水，可溶于苯、等部分溶剂。常温常压下稳定，避免强氧化剂、可燃物。不燃气体，四氟化碳公司，遇高热后容器内压增大，有开裂、炸危险。化学性质稳定，不燃。常温下只有液氨-试剂能发生作用。高纯四氟化碳在常温常压条件下化学性质稳定，高纯四氟化碳是一种高纯电子气体，在电子产业中需求量大。对于硅和二氧化硅体系，采用CF4-O2反应离子刻蚀时，四氟化碳厂家，通过调节两种气体的比例，可以获得45：1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。产品经除尘，碱洗除去HF、CoF2、SiF4、CO2等杂质、再经脱水可获得含量约为85%的粗品。将粗品引入低温精馏釜中进行间歇粗馏，通过控制精馏温度，除去O2、N2、H2，得到高纯CF4。因为四氟化碳和四氟化1硅都是共价化合物，然而碳氟键的键能远远大于硅氟键的键能，键长也是前者短得多，所以四氟化碳的热稳定性更好。对于硅和二氧化硅体系，采用CF4-O2反应离子刻蚀时，通过调节两种气体的比例，可以获得45：1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。四氟化碳的热稳定性更好。化合物的热稳定性主要与化学键的键能及键长有关。零下198°C时，四氟化碳具有单斜的结构，四氟化碳，晶格常数为a=8.597，b=4.433，c=8.381(.10-1nm)，β=118.73°。四氟化碳是可作为氟和自由基氟化碳的来源，用于各种晶片蚀刻工艺。四氟化碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。四氟化碳-谱纯气体|各地配送-四氟化碳厂家由安徽谱纯气体科技有限公司提供。安徽谱纯气体科技有限公司是安徽合肥,工业气体的见证者，多年来，公司贯彻执行科学管理、创新发展、诚实守信的方针，满足客户需求。在安徽谱纯领导携全体员工热情欢迎各界人士垂询洽谈，共创安徽谱纯更加美好的未来。)