DI直接成像曝光机1、技术优势：所有MIVA位图影像系统使用的曝光程序，使用率半导体光源系统和高解析度的光学模组，此系统将高清晰度的影像转移至感光基材，根据产品需求解析度可从3000DPI到128000DPI，光学头在板材上方连续移动曝光，高解析度的线性电机和光学尺可实现的位置控制。2、耗电低：待机时只需消耗350W，曝光时消耗2.5KW，这其中一半的能量是由吸板真空泵所消耗，LDI直接成像，故机台本身十分节能。机台可使用单相电源。曝光曝光是指将涂有感光层的PS版置于晒版机工作台上，放好底片，通过曝光获得一种潜在或可见图像的过程。曝光是一切光化学成像方法的基本过程与主要特征。曝光，曝光模式即计算机采用自然光源的模式，通常分为多种，LDI激光直接成像，手动曝光、AE锁等模式。照片的好坏与曝光有关，LDI直接成像设备，也就是说应该通多少的光线使CCD能够得到清晰的图像。曝光量由通光时间（快门速度决定），通光面积（光圈大小）决定。激光直接成像的优点2)对准度:通过消除照相板中经常存在的排列问题，LDI直接成像曝光机，特别是随着温度和湿度的变化照相板各向异性的移动，可改善对准度。激光直接成像系统在板子上能使用电荷藕合器件(CCD)照相系统、基准目标来排列印制图像和面板，也能够使用这些目标位置计算板子或钻孔的移动位置，从而实现了对准度的改进。3)公差:使用激光直接成像系统实现了质量上的不同公差等级。在理想的情况下，从钻孔图形到传导图形允许的未对准工业标准能从0.1mm减小到0.03mm迪盛微电子(图)-LDI激光直接成像-LDI直接成像由迪盛（武汉）微电子有限公司提供。迪盛（武汉）微电子有限公司位于江苏省苏州市吴中区金山南路868号锐晶大厦B座2楼。在市场经济的浪潮中拼博和发展，目前迪盛智能在光电子、激光仪器中享有良好的声誉。迪盛智能取得全网商盟认证，标志着我们的服务和管理水平达到了一个新的高度。迪盛智能全体员工愿与各界有识之士共同发展，共创美好未来。)