用正交试验法，对影响7075铝合金微弧氧化膜层致密性的电参数进行优化。以膜层厚度和孔隙率作为指标，以正向电压、电流密度、正占空比和脉冲频率作为因素设计，铝合金微弧氧化电源，并开展了四因素三水平的正交试验。使用扫描电镜对正交试验后微弧氧化陶瓷膜层的表面形貌进行了观察；利用ImageJ软件对陶瓷膜层的膜层厚度及孔隙率进行测量。结果表明：影响微弧氧化陶瓷膜层厚度的电参数顺序从大到小依次为：正向电压〉电流密度〉正占空比〉脉冲频率；影响微弧氧化膜层孔隙率的电参数顺序从大到小依次为：正向电压〉电流密度〉正占空比〉脉冲频率；采用综合平衡法确定的电参数的优化结果为：正向电压550V、电流密度8A/dm^2、正占空比20%、频率400Hz。微弧氧化技术是近几年国内盛行的高新科技技术，是原材料表面改性材料的一种关键方式。微弧氧化技术就是指在一般阳极氧化处理的根基上，运用光电催化方式，铝合金微弧氧化，根据等离子技术微孤的高温功效，激话在阳极氧化上出现的反映，进而使铝（镁、钛等）铝合金表面产生相和构造的转变，铝合金微弧氧化涂层，改进铝合金的耐磨损、耐腐蚀性能和电特点、抗高溫冲击性特点。时间对微弧氧化封孔膜层增厚的影响在其他工艺参数相同的情况下，不同封闭时间对陶瓷膜膜层增厚的影响。封闭时间较短时，膜层增厚较少；随着时间的延长，膜层逐渐增厚；但是封闭时间过长，如封闭时间超过60min后，膜层增厚并不显著，而且有下降的趋势。日照微弧技术有限公司秉承“真诚服务、信誉为先”的经营理念，非常注重产品质量，赢得了广大客户的一致好评，竭诚欢迎新老客户前来洽谈、惠顾！铝合金微弧氧化涂层-日照微弧氧化工艺-铝合金微弧氧化由日照微弧技术有限公司提供。日照微弧技术有限公司是从事“微弧氧化,微弧氧化技术,微弧氧化电源,微弧氧化厂家”的企业，公司秉承“诚信经营，用心服务”的理念，为您提供更好的产品和服务。欢迎来电咨询！联系人：赵先生。)