气液两相体系的搅拌1.过程特征及分散机理根据气液接触过程的供气方式，有通气式、自吸式和表面更新式三种类型的气液体系，而在工业应用中80%以上是采用带通气装置的径向流涡轮搅拌器。气液搅拌的目的是通过搅拌造成良好的气液接触，以形成气泡在液相中均匀分散后通过所形成的气液界面进行传质，或者是气液相发生化学反应等。早期研究认为，气液分散是气体直接被搅拌器剪切成细小气泡而形成的。但近年的研究成果一气穴理论认为:气体并不是直接被搅拌器剪碎而得到的。气泡的分散首先是在桨叶背面形成较稳定的气穴，气穴在尾部，形成富含小气泡的分散区，保山搅拌装置，这些气泡在离心力的作用下被甩出，反应釜搅拌装置，并随液体的流动分散至搅拌釜的其他区域。当气速过大或搅拌转速过低时，大气穴合并，整个搅拌器被气穴包裹，从而达到过载状态，即气体穿过搅拌器直接上升到液面，发生气泛现象。搅拌装置搅拌机和搅拌容器的典型组合方式，1、搅拌机，中心顶插式，搅拌容器，搅拌装置厂家，立式圆筒式，典型图例，见图，其特点是：这种形式应用为广泛，安装操作和检修方便，可用于压力容器及常压容器，但这种形式的搅拌轴比较长。2、搅拌机，偏心顶插式，搅拌容器，液体搅拌装置，立式圆筒式，典型图例，见图，其特点是：这种形式应用较少，釜内无挡板时旋涡小。表观气速V和通气数NAV和NA的计算式如QGV。QGNA(2-6nds式中V—表观气速，m/s;Q—通气速率，m/s:A—搅拌设备横截面积，m2;NA通气数。涡轮式搅拌器的V一般为0.025-0.04m/s，时可达0.1~0.12m/s。搅拌设备中气液分散状态在气液搅拌设备中，气体以小气泡的形式分散在液体中，随搅拌转速和通气速率的变化，分散状态发生转变。描述了在一定的通气速率下，搅拌转速逐渐增大时出现的气液分散状态的变化情况，可分为三个状态保山搅拌装置-淄博友胜化工-液体搅拌装置由淄博友胜化工设备有限公司提供。淄博友胜化工设备有限公司实力不俗，信誉可靠，在山东淄博的行业设备等行业积累了大批忠诚的客户。淄博友胜化工带着精益求精的工作态度和不断的完善创新理念和您携手步入辉煌，共创美好未来！)