耗材硅片硅片没有特殊要求，单面抛光即可。制备SU8模具时在硅片抛光旋涂光刻胶。光刻掩膜板光刻掩膜版（又称光罩，英文为MaskReticle），简称掩膜版，是制备SU8模具光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成微结构掩膜图形，通过曝光过程将微结构图形信息转移到SU8光刻胶涂层上，实现微结构的jing确复zhi。光刻掩膜版，一般可分为菲林掩膜版和玻璃掩膜版两种。桌面光刻机曝光光源：紫外LED光源波长：365nm;曝光面积：4英寸、6英寸可选；曝光方式：单面接触式定时曝光；曝光分辨率：2um；曝光强度：20~200mW/cm2可调；曝光不均匀性：≤5%；光源平行性：≤2°；光源寿命：≥20000h；电源输入：AC220V±10V，50HZ功率：250W重量：25kg外形尺寸：382（长）*371（宽）*435（高）工作环境：温度0℃-40℃，相对湿度＜80%SU8模具制备流程1.后烘将曝光后的硅片放置在热板上，SU8模具加工设备设计，进行后曝光烘烤，以确保光刻胶的交联反应完成。（举例说明：目标胶厚度50um，设置温度65℃，SU8模具加工设备哪家好，烘烤7min，SU8模具加工设备，然后温度95℃，烘烤3min）2.显影将硅片放入显影剂中，使未曝光部分的光刻胶溶解，SU8模具加工设备价格，形成模具的图案。（显影时间根据光刻胶厚度和显影剂浓度进行调整，此处显影时间20min）3.清洗将显影后的硅片用异丙chun溶剂进行清洗，去除多余的光刻胶。4.检查使用显微镜检查制备的SU-8模具，测试观察制备的微结构尺寸，确认图案的清晰度和质量。顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业，我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案SU8模具加工设备设计-SU8模具加工设备-顶旭由顶旭（苏州）微控技术有限公司提供。顶旭（苏州）微控技术有限公司是从事“微流控芯片定制，微流控芯片加工设备，微流控仪器，表面修饰”的企业，公司秉承“诚信经营，用心服务”的理念，为您提供更好的产品和服务。欢迎来电咨询！联系人：周经理。)