耗材硅片硅片没有特殊要求，微流控光刻机介绍，单面抛光即可。制备SU8模具时在硅片抛光旋涂光刻胶。光刻掩膜板光刻掩膜版（又称光罩，英文为MaskReticle），简称掩膜版，是制备SU8模具光刻工艺所使用的图形母版，微流控光刻机设计，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成微结构掩膜图形，通过曝光过程将微结构图形信息转移到SU8光刻胶涂层上，贵州微流控光刻机，实现微结构的jing确复zhi。光刻掩膜版，一般可分为菲林掩膜版和玻璃掩膜版两种。装箱清单1、桌面微型紫外光刻机主机1台2、匀胶机1台3、热板2台4、数显测厚规（千分款）1只5、显微镜1台（选配）6、耗材：硅片、掩膜版、SU8光刻胶（需额外购买）顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业，我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案。桌面光刻机曝光光源：紫外LED光源波长：365nm;曝光面积：4英寸、6英寸可选；曝光方式：单面接触式定时曝光；曝光分辨率：2um；曝光强度：20~200mW/cm2可调；曝光不均匀性：≤5%；光源平行性：≤2°；光源寿命：≥20000h；电源输入：AC220V±10V，50HZ功率：250W重量：25kg外形尺寸：382（长）*371（宽）*435（高）工作环境：温度0℃-40℃，相对湿度＜80%微流控光刻机介绍-顶旭(在线咨询)-贵州微流控光刻机由顶旭（苏州）微控技术有限公司提供。微流控光刻机介绍-顶旭(在线咨询)-贵州微流控光刻机是顶旭（苏州）微控技术有限公司今年新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：周经理。)