负占空比对钛合金微弧氧化膜层的影响恒压模式下，利用自制的多功能微弧氧化设备在Na2SiO3—Na3PO4—NaOH电解液体系中制备了钛合金陶瓷膜，采用扫描电镜、X射线衍射仪等考察了负占空比(dc)对钛合金微弧氧化膜厚度、表面形貌、硬度、相组成及耐蚀性的影响。结果表明：随着dc的增加，膜层厚度减小；膜层表面呈典型的多孔陶瓷结构，随dc的增大，膜层表面微孔数量减少，孔径增大且有裂纹产生；膜层相组成主要为Ti、金红石及锐钛矿TiO2，在dc=45%时基体衍射峰消失。相对基体而言，微弧氧化电源厂家，膜层的硬度及耐蚀性都具有较大的提高；随dc增加，膜层硬度增强，耐蚀性有一定程度的减弱。微弧氧化技术工艺特点微弧氧化从普通阳极氧化发展而来，微弧氧化电源，其装置包括专门用的高压电源、氧化槽、冷却系统和搅拌系统。氧化液大多采用碱性溶液，对环境污染小。溶液温度以室温为宜，微弧氧化电源原理图，温度变化范围较宽。溶液温度对微弧氧化的影响比阳极氧化小得多，因为微弧区烧结温度达几千度，远高于槽温，而阳极氧化要求溶液温度较低，特别是硬质阳极氧化对溶液温度限制更为严格。微弧氧化工件的形状可以较复杂，部分内表面也可处理。此外，微弧氧化工艺流程比阳极氧化简单得多，也是此技术工艺特点之一。微弧氧化技术特点1.提高材料表面硬度微弧氧化膜层为表面多孔（孔径为几微米）、内部致密的陶瓷层。膜层硬度高（维氏硬度可由几百至三千左右）膜层与基体为冶金结合、厚度在几微米至几百微米之间。2.高耐磨性用WC做摩擦副，表面处理微弧氧化电源，摩擦率为4.9*10-7mm3/Nm，摩擦系数0.48提高50倍左右。3.高耐蚀性耐中性盐雾腐蚀（按）≥400h，可做至≥800h膜层无明显腐蚀。微弧氧化电源厂家-微弧氧化电源-日照微弧养护技术(查看)由日照微弧技术有限公司提供。日照微弧技术有限公司坚持“以人为本”的企业理念，拥有一支高素质的员工队伍，力求提供更好的产品和服务回馈社会，并欢迎广大新老客户光临惠顾，真诚合作、共创美好未来。日照微弧技术——您可信赖的朋友，公司地址：山东省日照市高新技术产业开发区高新6路创业中心C4栋，联系人：赵先生。)