桌面光刻机曝光光源：紫外LED光源波长：365nm;曝光面积：4英寸、6英寸可选；曝光方式：单面接触式定时曝光；曝光分辨率：2um；曝光强度：20~200mW/cm2可调；曝光不均匀性：≤5%；光源平行性：≤2°；光源寿命：≥20000h；电源输入：AC220V±10V，微流控光刻机设计，50HZ功率：250W重量：25kg外形尺寸：382（长）*371（宽）*435（高）工作环境：温度0℃-40℃，相对湿度＜80%装箱清单1、桌面微型紫外光刻机主机1台2、匀胶机1台3、热板2台4、数显测厚规（千分款）1只5、显微镜1台（选配）6、耗材：硅片、掩膜版、SU8光刻胶（需额外购买）顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业，我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案。光刻胶SU-8是一种常用的负性光刻胶，通常由环氧树脂和光敏剂组成，它具有许多优点，使其在制备微结构和器件方面成为理想的选择：高分辨率：SU-8光刻胶具有出色的分辨率，可以制备细致的微结构，适合制作小尺寸线条和微细图案。粘附性强：SU-8光刻胶在许多基片表面具有良好的粘附性，可以在不同材料上制备微结构。厚度可调：SU-8光刻胶可以通过多次涂覆和光刻来控制厚度，适用于制备不同厚度的微结构。化学稳定性：SU-8光刻胶具有较高的化学稳定性，微流控光刻机，可以耐受许多溶剂和化学物质，微流控光刻机优势，适用于各种应用环境。热稳定性：SU-8光刻胶在高温下具有较好的稳定性，适用于需要高温处理的制备过程。多层光刻：SU-8光刻胶可用于多层光刻制备，能够实现更复杂的微结构和器件。应用广泛：SU-8光刻胶在微流体器件、生物芯片、MEMS、光学器件等多个领域中得到广泛应用。顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业。提供丰富多样的微流控芯片加工设备，涵盖SU8模具加工、PDMS芯片加工和玻璃芯片加工。可以帮助客户在自己的实验室内进行微流控芯片的快速制作，从而提高实验效率和灵活性。微流控光刻机-顶旭微控-微流控光刻机优势由顶旭（苏州）微控技术有限公司提供。微流控光刻机-顶旭微控-微流控光刻机优势是顶旭（苏州）微控技术有限公司今年新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：周经理。)