SU8模具制备流程1.后烘将曝光后的硅片放置在热板上，进行后曝光烘烤，以确保光刻胶的交联反应完成。（举例说明：目标胶厚度50um，设置温度65℃，SU8光刻机设计，烘烤7min，然后温度95℃，SU8光刻机企业，烘烤3min）2.显影将硅片放入显影剂中，SU8光刻机优点，使未曝光部分的光刻胶溶解，形成模具的图案。（显影时间根据光刻胶厚度和显影剂浓度进行调整，此处显影时间20min）3.清洗将显影后的硅片用异丙chun溶剂进行清洗，去除多余的光刻胶。4.检查使用显微镜检查制备的SU-8模具，测试观察制备的微结构尺寸，确认图案的清晰度和质量。顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业，我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案显微镜观察头：铰链式三目观察头，30°倾斜，瞳距48～75mm目镜：超大视野目镜10X/22无xian远平场消色差物镜：4X/0.1，嘉兴SU8光刻机，10X/0.25，20X/0.4，40X/0.65转化器：四孔转换器载物台：载物台面积300×268mm，移动范围250×250mm焦距调节：同轴粗微动调焦机构，行程24mm照明系统：6V20W卤素灯，亮度可调滤色镜蓝色、黄色、绿色、磨砂玻璃片微流控芯片加工设备：提供丰富多样的微流控芯片加工设备，涵盖SU8模具加工、PDMS芯片加工和玻璃芯片加工。可以帮助客户在自己的实验室内进行微流控芯片的快速制作，从而提高实验效率和灵活性。匀胶机调速范围和时间：I档：50~10000转/分，时间0~999sII档：50~10000转/分，时间0~999s适用：直径5~100mm硅片及其他材料匀胶转速稳定性：±1％胶的均匀性：±2％电极功率：40W，单相110~240V真空泵抽气速率：＞60L/min顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业，我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案。嘉兴SU8光刻机-顶旭微控-SU8光刻机优点由顶旭（苏州）微控技术有限公司提供。顶旭（苏州）微控技术有限公司实力不俗，信誉可靠，在江苏苏州的生物制品等行业积累了大批忠诚的客户。顶旭带着精益求精的工作态度和不断的完善创新理念和您携手步入辉煌，共创美好未来！)