耗材硅片硅片没有特殊要求，单面抛光即可。制备SU8模具时在硅片抛光旋涂光刻胶。光刻掩膜板光刻掩膜版（又称光罩，显影机，英文为MaskReticle），简称掩膜版，是制备SU8模具光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成微结构掩膜图形，通过曝光过程将微结构图形信息转移到SU8光刻胶涂层上，实现微结构的jing确复zhi。光刻掩膜版，一般可分为菲林掩膜版和玻璃掩膜版两种。热板温度：0~300℃温度稳定性：±1℃功率：850W台面大小：200x200mm公司团队拥有丰富的经验和技术积累，持续将专ye知识与创新思维相结合，为客户提供高品pin质的解决方案。我们将始终坚持以客户为中心，不断挑战自我，不断追求卓yue，通过专ye、创新和合作，为客户创造更大的价值，共同kai创微流控领域的美好未来。匀胶机调速范围和时间：I档：50~10000转/分，时间0~999sII档：50~10000转/分，时间0~999s适用：直径5~100mm硅片及其他材料匀胶转速稳定性：±1％胶的均匀性：±2％电极功率：40W，单相110~240V真空泵抽气速率：＞60L/min顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业，我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案。顶旭-宁夏回族自治显影机由顶旭（苏州）微控技术有限公司提供。顶旭（苏州）微控技术有限公司实力不俗，信誉可靠，在江苏苏州的生物制品等行业积累了大批忠诚的客户。顶旭带着精益求精的工作态度和不断的完善创新理念和您携手步入辉煌，共创美好未来！)