使用方法该设备操作简单，易于上手，具体操作如下：一、曝光前准备工作1、硅片处理：确保待曝光硅片经过匀胶处理，表面干净平整，没有明显的污渍或破损。2、选择光刻板：根据项目需要，选择合适尺寸的光刻板，本设备兼容4英寸、5英寸或6英寸。3、设备检查：仔细检查设备，确保所有部件处于正常工作状态，确保操作环境良好。二、曝光操作步骤1、安装硅片：将待曝光硅片平放在设备的载台上，确保位置准确。2、放置光刻板：将光刻板平放在硅片上方，如果使用菲林掩膜，需要在其上方放置透明玻璃以保持平稳。3、设定曝光参数：使用控制面板设置曝光时间和强度，根据具体需求进行调整。微流控光刻机是一种精密的设备，其报价会受到多种因素的影响。首先，显影机，微流控光刻机的制造成本是一个重要的考虑因素，包括设备的材料成本、制造工艺成本、人工成本等。其次，微流控光刻机的性能也是一个重要的考虑因素，包括其精度、速度、稳定性等。此外，微流控光刻机的售后服务也是一个重要的考虑因素，包括设备的维护、维修、升级等。微流控光刻机的市场供求也是一个重要的考虑因素，如果市场上供应过剩，价格可能会下降前烘1）将涂布好SU8光刻胶的硅片放置在热板上，进行预热烘烤，去除光刻胶中的挥发性有ji溶剂，时间和温度根据光刻胶厚度进行调整。（举例说明：目标胶厚度50um，设置温度65℃，烘烤15min，然后温度95度，烘烤15分钟）曝光1）将预热后的硅片放置在桌面光刻机托盘上。2）使用相应的掩模（掩膜）放置在硅片上进行曝光，曝光时间和强度根据SU-8光刻胶的类型和厚度进行调整。（举例说明：目标胶厚度50um，设置曝光能量25mw/cm2，时间12s）后烘将曝光后的硅片放置在热板上，进行后曝光烘烤，以确保光刻胶的交联反应完成。（举例说明：目标胶厚度50um，设置温度65℃，烘烤7min，然后温度95℃，烘烤3min）六、显影将硅片放入显影剂中，使未曝光部分的光刻胶溶解，形成模具的图案。（显影时间根据光刻胶厚度和显影剂浓度进行调整，此处显影时间20min）清洗将显影后的硅片用异bing醇溶剂进行清洗，去除多余的光刻胶。检查使用显微镜检查制备的SU-8模具，测试观察制备的微结构尺寸，确认图案的清晰度和质量。顶旭微控技术有限公司(多图)-金华显影机由顶旭（苏州）微控技术有限公司提供。顶旭（苏州）微控技术有限公司为客户提供“微流控芯片定制，微流控芯片加工设备，微流控仪器，表面修饰”等业务，公司拥有“微流控芯片定制，微流控芯片加工设备，微流控仪器，表面修饰”等品牌，专注于生物制品等行业。，在苏州工业园区斜塘街道东富路32号雅景综合产业园A栋A217室的名声不错。欢迎来电垂询，联系人：周经理。)