Parylene真空镀膜是利用的真空化学气相沉积CVD(ChemicalVaporDeition)的方式，将Parylene原料为150℃中气化，再经650℃中进行裂解，而成为活性单体，在室温真空舱体里由活性单体小分子在基材表面结晶成一层包覆性的聚合物薄膜层，可以于各种形状物体表面均匀形成薄膜，薄膜厚度可由1μm~50μm，膜厚均匀、质轻无、透明无应力、高绝缘性及披覆性、耐溶剂、抗酸碱、防锈，是当代LED灯具产业IP规范、防尘、防水、防潮较佳伙伴。Parylene真空镀膜有别于一般喷涂、灌胶，真空镀膜利用气相沉积镀膜方式不受视线阻碍，需镀膜的产品，模具纳米涂层，其所有的表面皆会被活性单体紧密覆盖镀膜，汽车纳米涂层，而达到精细均匀、高质量的镀膜表层，而且易于维修，产品回收使用性高，纳米防腐涂层，减少灌胶人力成本。原子层沉积是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种方法（技术）。当前驱体达到沉积基体表面，它们会在其表面化学吸附并发生表面反应。在前驱体脉冲之间需要用惰性气体对原子层沉积反应器进行清洗。由此可知沉积反应前驱体物质能否在被沉积材料表面化学吸附是实现原子层沉积的关键。气相物质在基体材料的表面吸附特征可以看出，任何气相物质在材料表面都可以进行物理吸附，但是要实现在材料表面的化学吸附必须具有一定的活化能，东莞纳米涂层，因此能否实现原子层沉积，选择合适的反应前驱体物质是很重要的。与化学吸附自限制过程不同，顺次反应自限制原子层沉积过程是通过活性前驱体物质与活性基体材料表面化学反应来驱动的。这样得到的沉积薄膜是由于前驱体与基体材料间的化学反应形成的。图a和b分别给出了这两种自限制反应过程的示意图。由图可知，化学吸附自限制过程的是由吸附前驱体1（ML2）与前驱体2（AN2）直接反应生成MA原子层（薄膜构成），主要反应可以以方程式⑴表示。对于顺次反应自限制过程首先是活化剂（AN）活化基体材料表面；然后注入的前驱体1（ML2）在活化的基体材料表面反应形成吸附中间体（AML），这可以用反应方程式⑵表示。反应⑵随着活化剂AN的反应消耗而自动终止，具有自限制性。当沉积反应前驱体2（AN2）注入反应器后，就会与上述的吸附中间体反应并生成沉积原子层。模具纳米涂层-菱威纳米(在线咨询)-东莞纳米涂层由东莞菱威纳米科技有限公司提供。东莞菱威纳米科技有限公司在工业制品这一领域倾注了诸多的热忱和热情，菱威纳米一直以客户为中心、为客户创造价值的理念、以品质、服务来赢得市场，衷心希望能与社会各界合作，共创成功，共创辉煌。相关业务欢迎垂询，联系人：杜小姐。)