1.中性盐雲试验(NSS试验)是出现很早目前应用领域很广的一种加速膚蚀试验方法。它采用5%的氯化钠盐水溶液，镀膜，溶液PH值调在中性范围(6~7)作为喷零用的溶液。试验温度均取35C，要求盐的沉降率在1~2ml/80cm2h之间。2.错酸盐零试验(ASS试验)是在中性盐雾试验的基础上发展起来的。它是在5%氯化钠溶液中加入ー些冰錯酸，电路板镀膜，使溶液的PH值降为3左右，溶液变成酸性，很后形成的盐零也由中性盐变成酸性。它的腐蚀速度要比NSS试验倍左右。3.铜盐加速錯酸盐零试验(CASS试验)是国外新近发展起来的一种快速盐雲腐蚀试验，试验温度为50C，盐溶液中加入少量铜盐一氯化铜，马达风扇镀膜，强烈发膚蚀。它的腐蚀速度大约是NSS试验的8倍。1）沉积反应如在气固界面上发生则沉积物将按照原有固态基底（又称衬底）的形状包覆一层薄膜。2）涂层的化学成分可以随气相组成的改变而改变从而获得梯度沉积物或得到混合镀层。3）采用某种基底材料，沉积物达到一定厚度以后又容易与基底分离，这样就可以得到各种特定形状的游离沉积物器具。4）在CVD技术中也可以沉积生成晶体或细粉状物质，或者使沉积反应发生在气相中而不是在基底表面上，这样得到的无机合成物质可以是很细的粉末，甚至是纳米尺度的微粒称为纳米超细粉末。5）CVD工艺是在较低压力和温度下进行的，通过派瑞林镀膜技术可增强材料断裂强度和抗震性能是在较低压力和温度下进行的。湿气中往往溶解有氯化物、硫酸盐和等，能引起或加剧电子产品中金属的腐蚀，影响产品的物理和化学性能。如果绝缘材料选用及工艺处理不当，则绝缘电阻会迅速下降，以致绝缘被击穿。盐雾是导致设备、零部件、元器件损坏的另一个重要环境因素，水分中溶解的盐具有两个独立的侵蚀作用：一是腐蚀金属和无机材料；二是提供一种活性电解质，使不同金属接触时产生电偶腐蚀，并促进具有不同电动势或在不同电压下的金属的电解作用。三防设计上的防盐雾腐蚀措施主要有电镀、涂覆、合理选用金属材料、密封装置、控制环境温度和相对湿度等。霉菌在一定温度、湿度条件下，繁殖生长迅速，其分泌物形成的斑点影响产品外观。这些分泌物所含的弱酸会使电工仪表的金属细线腐蚀断裂，损坏电路功能。硅胶导管镀膜-镀膜-菱威真空镀膜派瑞林(查看)由东莞菱威纳米科技有限公司提供。硅胶导管镀膜-镀膜-菱威真空镀膜派瑞林(查看)是东莞菱威纳米科技有限公司今年新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：杜小姐。)