铝合金曝光显影工艺流程答：亲亲，您好，简单流程如下：1.开料2.钻孔3.湿膜4.曝光显影5.蚀刻线路6.阻焊7.字符8.外形9.包装如果只做铝基板的话，设备就是钻孔机，圆弧面曝光显影生产厂商，锣边机，圆弧面曝光显影加工，曝光机，蚀刻机，圆弧面曝光显影，显影机，包装机大概就这些。比双面板工艺少电镀一个工序就是了。场地就不好说了，看你准备多大的产能感谢您的耐心等待。圆弧面曝光显影圆弧面曝光显影圆弧面曝光显影圆弧面曝光显影圆弧面曝光显影圆弧面曝光显影显影液表面停留（puddle）：为了让显影液与光刻胶进行充分反应，显影液喷淋后需要在硅片表面停留一般为几十秒到一两分钟。显影液去除并且清洗（rinse）：达到显影时间后，使用DIW立即冲洗晶圆表面。将显影液涂覆在曝光后的晶圆表面上，圆弧面曝光显影定制，正胶的曝光区域和负胶的非曝光区域溶于显影液中，进一步将反应聚合物和显影液残留冲洗后，就可以显现出光刻胶中的图形，曝光显影是一种工程加工技术，用于制造半导体芯片、液晶显示器等微电子器件，以及印刷和摄影等领域。曝光显影使用特定的光刻胶和掩膜，在曝光和显影两个步骤中将所需的图案或形状转移到底材表面。通常，曝光步骤是将光线聚焦在光刻胶上，而显影步骤则是将底材浸泡在显影剂中达到消除未曝光区域的目的。通过曝光显影技术，可以在微米尺度上制造出高精度的微电子元器件和芯片。圆弧面曝光显影加工-圆弧面曝光显影-利成感光由东莞市清溪利成感光五金厂提供。行路致远，砥砺前行。东莞市清溪利成感光五金厂致力成为与您共赢、共生、共同前行的战略伙伴，更矢志成为树脂工艺品具有竞争力的企业，与您一起飞跃，共同成功!)