显影液表面停留（puddle）：为了让显影液与光刻胶进行充分反应，显影液喷淋后需要在硅片表面停留一般为几十秒到一两分钟。曝光显影加工是半导体工业制程中的一种加工方法，也被称为光刻工艺。它是通过在芯片表面上涂覆一层光刻胶，曝光显影定做，并使用掩膜在光刻胶上曝光出所需要的芯片图案，通过显影来去除未曝光的部分，将芯片图案准确地转移到芯片表面的制程。曝光不足，导致单体聚合不，那么在显影过程中，会使的胶膜变软，线条不清晰，色泽暗淡，曝光显影，脱胶。曝光过度，会造成难显影，留有残胶。同时曝光影响图案的线宽，曝光显影抛光，过量曝光会使图形线条变细，蚀刻产品线条变粗。曝光显影工艺主要应用于微电子加工中，是一种将芯片图案传递到硅片上的技术。曝光显影工艺可以分为以下步骤：准备硅片：在硅片上涂覆光刻胶，将硅片和光刻胶一起加热，使其在表面形成均匀的光刻胶层。显影液表面停留（puddle）：为了让显影液与光刻胶进行充分反应，显影液喷淋后需要在硅片表面停留一般为几十秒到一两分钟。前工站加工的玻璃进入显影设备，曝光显影定制，对需要去除的油墨进行化学反应，进行剥离，然后进行表面清洗，形成高精度的油墨3D盖板。显影操作需控制好显影液的温度、传送速度、喷淋压力等参数。甩干（spindry）：为了将表面的去离子水甩干，将硅片转到高转速曝光显影-清溪利成感光-曝光显影抛光由东莞市清溪利成感光五金厂提供。曝光显影-清溪利成感光-曝光显影抛光是东莞市清溪利成感光五金厂今年新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：张应叙。)