EDI超纯水设备工作原理半导体材料是在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电等领域进行应用的。半导体材料在应用中会需要一定量的超纯水，可用于清洗，半导体纯水设备安装，该超纯水电阻率达到了18兆欧，半导体纯水设备报价，不含导电介质和金属离子，可满足作为半导体清洗用水的需求。采用两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺，处理后的水质可达到18MΩ.CM以上，符合半导体用水标准。设备采用如今大热的膜技术，半导体纯水设备厂家，可有效去除水中的导电介质，以及水中不离解的胶体物质、气体及有机物，设备的出水纯度高，无病毒与细菌，不含任何悬浮物、无化学污染，产出的可谓是高品的超纯水了超纯水设备日常保养中会遇到的问题问题一：超纯水设备的管道怎样清洗。答：开始时使用超纯水冲洗管内杂质，第二遍、第三遍使用清洗消毒，第四遍可应用超纯水将管内残液冲洗干净。问题二：超纯水设备如何消毒。答：设备可在清洗水箱中加入1200LRO产水，缓缓加入约10kg25%的H2O2溶液，配制0.2%的H2O2溶液，用清洗泵自循环10分钟，使溶液混合均匀。EDI膜堆主要由交替排列的阳离子交换膜、浓水室、阴离子交换膜、淡水室和正、负电极组成。离子交换树脂充夹在阴阳离子交换膜之间形成单个处理单元，并构成淡水室，单元与单元之间用网状物隔开，形成浓水室。在直流电场的作用下，淡水室中离子交换树脂中的阳离子和阴离子沿树脂和膜构成的通道分别向负极和正极方向迁移，阳离子透过阳离子交换膜，阴离子透过阴离子交换膜，分别进入浓水室形成浓水。同时EDI进水中的阳离子和阴离子跟离子交换树脂中的氢离子和氢氧根离子交换，形成超纯水（高纯水）。超极限电流使水电解产生的大量氢离子和氢氧根离子对离子交换树脂进行连续的再生。传统的离子交换，离子交换树脂饱和后需要化学间歇再生。而EDI膜堆中的树脂通过水的电解连续再生，工作是连续的，半导体纯水设备，不需要酸碱化学再生。EDI装置将给水分成三股独立的水流：纯水、浓水、和极水。纯水（90%-95%）为终得到水，浓水（5%-10%）可以再循环处理，极水（1%）排放掉。半导体纯水设备厂家-半导体纯水设备-瑞尔环保由天津开发区瑞尔环保科技有限公司提供。半导体纯水设备厂家-半导体纯水设备-瑞尔环保是天津开发区瑞尔环保科技有限公司今年新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：瑞经理。同时本公司还是从事天津纯水设备，天津食品纯水设备，天津制药纯水设备的厂家，欢迎来电咨询。)